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Ficheiro:Extreme ultraviolet lithography tool.jpg

Imagem numa resolução maior (713 × 605 píxeis, tamanho: 80 kB, tipo MIME: image/jpeg)

Descrição
English: EUVL tool, that deposits virtually defect-free, ultra-thin films on integrated circuits.
Data
Origem Laser Programs, the first 25 years, 1972-1997, available from osti.gov.
Autor Lawrence Livermore National Laboratory
Permissão
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Legendas

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Elementos retratados neste ficheiro

retrata

tamanho dos dados

81 972 byte

altura

605 pixel

largura

713 pixel

tipo de média

image/jpeg

soma de verificação

ddc273217f7782201fa2f40d866a18cfb782c836

método de determinação: SHA-1

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Data e horaMiniaturaDimensõesUtilizadorComentário
atual18h19min de 22 de setembro de 2011Miniatura da versão das 18h19min de 22 de setembro de 2011713 × 605 (80 kB)Bomazi{{Information |Description ={{en|1=EUVL tool, that deposits virtually defect-free, ultra-thin films on integrated circuits.}} |Source =''Laser Programs, the first 25 years, 1972-1997'', available from [http://www.osti.gov/bridge/product.biblio.

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Metadados

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